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凈化工程公司

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  • 半導體、電子潔凈廠房設計施工的5大特點及關鍵難點
    半導體、電子潔凈廠房設計施工的5大特點及關鍵難點
    2021-11-18
    這個表格是我們半導體制造一些工藝生產過程的潔凈等級要求,要求一般的是光照制造,還有微環境,其他的一些大的區域,包括薄膜等在百級。潔凈度的要求是不是越高越好,這個主要還是決定我們的設計,或者對生產的要求,潔凈度越高意味著FFU覆蓋率會成倍的增加。目前對一些潔凈室的設計還是大環境,不需要很高的潔凈度。
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